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1、其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面。

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2、CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统，气相反应器，气流传送系统。

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3、反应物多为金属氯化物，先被加热到一定温度，达到足够高的蒸汽压，用载气（一般为Ar或H2）送入反应器。

4、如果某种金属不能形成高压氯化物蒸汽，就代之以有机金属化合物。

5、在反应器内，被涂材料或用金属丝悬挂，或放在平面上，或沉没在粉末的流化床中，或本身就是流化床中的颗粒。

6、化学反应器中发生，产物就会沉积到被涂物表面，废气（多为HCl或HF）被导向碱性吸收或冷阱。

7、 沉积反应可认为还原反应、热解反应和取代反应几类。

8、CVD反应可分为冷壁反应与热壁反应。

9、在热壁反应中，化学反应的发生与被涂物同处一室。

10、被涂物表面和反应室的内壁都涂上一层薄膜。

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11、在热壁反应器中只加热被涂物，反应物另行导入。

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